1. UKM Learning and Research Repository
2. Master Thesis / Tesis Master
3. Faculty of Science and Technology / Fakulti Sains dan Teknologi

Title:	Elektropemendapan nanowayar nikel tunggal menggunakan templat aluminium oksida teranod
Authors:	Nur Ubaidah Saidin (P65951)
Supervisor:	Mohammad Hafizuddin Haji Jumali, Prof. Madya Dr.
Keywords:	Templat A12O3 berliang Nanowayar Elektropemendapan Nanostruktur Dissertations, Academic -- Malaysia
Issue Date:	25-Aug-2016
Description:	Tesis ini memfokuskan kepada penghasilan templat Al2O3 berliang (TAO) serta penumbuhan nanowayar tunggal Ni menggunakan teknik elektropemendapan. Membran TAO digunakan sebagai acuan penumbuhan nanostruktur 1-D ini bagi mendapatkan nanowayar berdiameter seragam. TAO yang seragam difabrikasi terlebih dahulu bagi mendapatkan liang yang ideal menggunakan teknik penganodan 2 langkah. Langkah pertama penganodan menghasilkan pra-tekstur berbentuk cekung manakala langkah kedua menghasilkan produk akhir TAO. TAO yang ideal mempunyai liang di dalam sel yang berbentuk heksagon, berserenjang dengan permukaan Al, diameter yang seragam, terasing antara satu sama lain dan tidak bercabang. Proses penganodan dijalankan dengan mengawal tempoh yang digunakan bagi kedua-dua langkah. Larutan yang digunakan sebagai elektrolit bagi penghasilan membran TAO dalam kajian ini adalah 0.3 M C2H2O4. Keupayaan ditetapkan pada 40 V dengan pengacauan dilakukan sepanjang penganodan dijalankan pada 600 rpm. Kajian mendapati tempoh yang sesuai bagi mendapatkan TAO yang ideal adalah 6 j dan 5 j masing-masing bagi penganodan pertama dan kedua. Pertambahan tempoh penganodan seterusnya adalah tidak digalakkan memandangkan proses pembubaran yang berlaku menyebabkan pemecahan pada dinding liang. Bagi membolehkan TAO yang difabrikasi dapat digunakan sebagai acuan bagi menumbuhkan nanostruktur 1-D, lapisan penghalang yang wujud pada bawah liang perlu disingkirkan menggunakan campuran 0.1 M CuCl2 dan 20 % isipadu HCl selama 100 min. Mikrograf FESEM menunjukkan TAO dengan diameter dan kedalaman masing-masing adalah 78.0 nm dan 40.8 μm telah berjaya difabrikasi. Ketumpatan liang dan keliangan pula masing-masing adalah 1× 1024 liang⋅cm-2 dan 0.530. Kemudian, nanowayar Ni ditumbuhkan di dalam TAO menggunakan teknik elektropemendapan. 0.1 M NiCl2 bersama 0.5 M H3BO3 digunakan sebagai elektrolit semasa pemendapan dilakukan. Sel 3 elektrod digunakan dan pemendapan dijalankan dengan menetapkan nilai arus pada -8.0 mA⋅cm-2. Proses pemendapan dilakukan sehingga 3 j. Mikrograf SEM membuktikan bahawa nanowayar Ni yang lurus telah berjaya dihasilkan dengan panjang nanowayar meningkat secara kuadratik terhadap tempoh pemendapan. Ujian XRD mengesahkan bahawa Ni yang ditumbuhkan adalah tulen dengan puncak dominan pada satah (111). Sementara itu, pencirian HRTEM menunjukkan bahawa terdapat satu lapisan oksida/hidroksil pada lapisan luar nanowayar. Lapisan ini terhasil akibat tindakbalas secara semulajadi antara Ni dengan persekitaran. Lapisan ini adalah terlalu nipis menyebabkan ia gagal dikesan melalui pencirian XRD selain sifatnya yang amorfus seperti yang ditunjukkan dari pencirian menggunakan HRTEM. Selain daripada teknik yang mudah dan murah bagi penumbuhan nanostruktur 1-D, keputusan kajian ini menunjukkan bahawa tempoh penganodan bagi kedua-dua langkah adalah sangat kritikal dalam penghasilan struktur liang TAO yang ideal. Kajian turut membuktikan bahawa penumbuhan nanowayar menggunakan TAO sebagai acuan mampu menghasilkan nanostruktur 1-D dengan diameter dan panjang yang terkawal.,Tesis ini tidak ada Perakuan Tesis Sarjana/Doktor Falsafah"
Pages:	92
Publisher:	UKM, Bangi
Appears in Collections:	Faculty of Science and Technology / Fakulti Sains dan Teknologi

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.